型號：	非標定制	規格：	185nm,254nm,172nm
商標：	Tobey	包裝：	紙箱
產量：	1000000

紫外線光清洗燈，UV清洗燈基本介紹

光清洗制程:

使用UV是於1980年代初將光洗凈法實用化，一直到90年代以改質為目的被廣泛的應用。

由UV而產生之氧化反應，其效果依被處理物之種類而定分為洗凈和改質兩大項

而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種，其波長領域極廣，

100mm ~400mm為紫外線放射范圍，屬於UV-C范圍，因其波長短UV能量高，其值和很多有機物之化學結合之能量值相近，易起反應生成各種作用及效果，其中具代表的作用就是洗凈.

改質對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果

紫外線光清洗燈，UV清洗燈性能特點

二、紫外光清洗的特點：

1、是一種無接觸方式，可在空氣中進行并且在清洗后不必進行干燥。

2、可 清除物體表面的碳和有機污染物。

3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。

4、保證產品的高可靠性和高成品率。

5、產品表面清洗處理的均勻度一致。

6、由於光清洗是通過光敏、氧化反應去除物體表面的碳和有機化合物，所以容易發生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機類污垢清洗。

紫外線光清洗燈，UV清洗燈技術參數

型號 （U,H）	管徑 （D）	管壓 (V)	電流 (mA)	功率 (W)	安裝長度 (ｍｍ)	弧長 （ｍｍ）	備注
SVR40U	17.5	95±5	450	40	270	200
SVR70U	17.5	100±5	800	70	370	300
SVR90U	17.5	130±5	800	90	530	455
SVR110U	17.5	130±5	900	110	640	565
SVR160U	17.5	150±5	1000-1200	160	780	705
SVR200U	17.5	130±5	1200-1500	200	820	755

紫外線光清洗燈，UV清洗燈使用說明

主要在液晶顯示器件、半導體矽晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、矽晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。

可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。

此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(紫外光表面質變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產過程中，主要是用在膜處理技術上，對於改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層， 涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產品，用於納米技術研究，產品經此UV光照射發生化學反應，使產品表面性質改變。 STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設備相當雷同，差別在於制造工藝要求的不同。隨著線路的精細化及產品的彩色比，LCD產業對制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設備能力不斷地精進，才能提高生產的質量與效率。